硅晶圓工藝特氣管道系統過濾器丨硅烷特氣管道系統過濾器
硅晶圓工藝特氣管道系統是半導體制造的 “氣體輸送動脈”,負責將光刻、蝕刻、沉積等關鍵制程所需的特種氣體(如 Cl2、NH3、SiH4 等)精準輸送至反應腔室,直接決定晶圓圖案精度與成品良率,對氣體純度要求達 ppb 級以下。?
1、為什么需要使用過濾器??
硅晶圓制程中,哪怕 0.1μm 的微粒、微量油霧或碳氫化合物,都可能導致晶圓缺陷、光刻膠失效或設備腔室污染,造成巨額生產成本損失。特氣管道在安裝、輸送過程中易殘留塵埃、鐵銹,且特氣本身可能攜帶雜質,必須通過專業過濾器實現深度凈化。?
2、過濾器介紹?
恒歌 HF 系列高壓氣體專用過濾器,專為硅晶圓工藝特氣管道系統量身打造,采用 316L 不銹鋼一體結構,50Mpa 設計壓力適配特氣高壓輸送場景,兼具高強度與輕量化優勢。可高效濾除氣體中 0.003μm 以上的微粒、油霧及碳氫化合物,濾芯經 100% 完整性測試與氨氣泄露檢測,確保特氣純度符合半導體制造標準。?
3、過濾器特點?
??整體 316L 不銹鋼材質,耐腐蝕性強,適配各類腐蝕性特氣?
??輕量化、小型化設計,螺紋連接節省安裝空間,兼容 C/W 型密封規格?
??耐高溫(600℃)、耐高壓(50Mpa),適配極端制程環境?
??過濾效率達 99.999%,不易堵塞,保障氣體輸送穩定性?
??濾芯可快速更換,安裝檢修無需復雜工具?
??100% 完整性測試 + 氨氣泄露檢測,零泄漏風險?
4、產品應用?
半導體硅晶圓制造(28nm 及以下先進制程)、LED 芯片制造、半導體封裝測試等領域的特氣管道系統凈化。?
5、常見問答?
Q:過濾精度能否滿足硅晶圓先進制程要求??
A:支持 0.003μm~120μm 多規格濾芯,可實現 ppb 級雜質去除,完全適配 7nm/5nm 制程特氣凈化需求。?
Q:能否兼容含氟、含氯等腐蝕性特氣??
A:316L 不銹鋼結構 + 專用密封材質,可安全適配 HF、Cl2 等強腐蝕性特氣,無材質反應風險。?
Q:維護周期多久?更換濾芯是否影響生產??
A:常規使用下濾芯壽命 6~12 個月,快拆式設計可在 30 分鐘內完成更換,建議配備備用濾芯實現無縫切換。?
Q:過濾器會產生氣體壓降嗎??
A:優化流道設計,壓降≤0.05Mpa,不影響特氣輸送流速與系統壓力穩定性。?
6、選型指引?
若您不確定濾芯精度、接口規格或特氣適配性,歡迎聯系我們,提供制程參數即可獲得定制化選型方案!








